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  • 光學(xué)玻璃發(fā)展

    光學(xué)玻璃的發(fā)展和光學(xué)儀器的發(fā)展是密不可分的。光學(xué)系統(tǒng)新的改革往往向光學(xué)玻璃提出新的要求,因而推動(dòng)了光學(xué)玻璃的發(fā)展,同樣,新品種玻璃的試制成功也也往往反過(guò)來(lái)促進(jìn)了光學(xué)儀器的發(fā)展。 最早被人

  • 真空蒸發(fā)鍍膜法生產(chǎn)太陽(yáng)膜過(guò)程

    現(xiàn)在市面上好的太陽(yáng)膜其制作方法多半為以下兩種:一種是真空蒸發(fā)鍍膜法。一種是磁控濺射法。 1.真空蒸發(fā)鍍膜法就是在1.3×10-2~1.3×10-3Pa(10-4~

  • 紅外增透保護(hù)薄膜的研究及應(yīng)用

    針對(duì)機(jī)載紅外搜索跟蹤系統(tǒng)和彈載紅外精確制導(dǎo)系統(tǒng)對(duì)紅外增透保護(hù)薄膜技術(shù)的迫切需求,基于使役環(huán)境和薄膜光學(xué)要求進(jìn)行膜系優(yōu)化設(shè)計(jì),采用過(guò)濾陰極真空電弧、磁控濺射等技術(shù)制備非晶金剛石、非晶碳化鍺、磷化物

  • 真空鍍膜技術(shù)的一般術(shù)語(yǔ)及工藝(1)

    1.1真空鍍膜vacuumcoating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 1.2基片substrate:膜層承受體。 1.3試驗(yàn)基片testingsubstrate:在

  • 利用真空鍍膜技術(shù)逐步替代傳統(tǒng)水電鍍

    傳統(tǒng)水電鍍由于對(duì)環(huán)境的污染及需要使用一些劇毒原料,已經(jīng)被國(guó)家及各級(jí)地方政府所限制發(fā)展。目前一些企業(yè)設(shè)立了集中污水處理的水電鍍工業(yè)園,在一定程度上改變了污水亂排放的現(xiàn)象。但污水處理成本高、能耗高,

  • 立式真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)

    真空鍍膜機(jī)主要由鍍膜室、真空系統(tǒng)、電控系統(tǒng)等部分組成。而立式真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)的鍍膜室結(jié)構(gòu)主要由室體、球面行星轉(zhuǎn)動(dòng)基片架、基片烘烤裝置、E型槍蒸發(fā)源、膜厚測(cè)量晶體、擋板等構(gòu)件組成。室體可采用鐘罩式或

  • 真空鍍膜技術(shù)的一般術(shù)語(yǔ)及工藝

    2.5磁控濺射magnetronsputtering:借助于靶表面上形成的正交電磁場(chǎng),把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域,來(lái)增強(qiáng)電離效率,增加離子密度和能量,因而可在低電壓,大電流下取得很高濺射速率

  • 鍍膜常見(jiàn)涂層及性能優(yōu)點(diǎn)

    TiN 中文名:氮化鈦; 顏色:金色; 硬度:2300HV; 摩擦系數(shù):0.23VSNi; 最高工作溫度:580℃; 優(yōu)點(diǎn):增加表面硬度、減少摩擦

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